Tin tức

Trong lĩnh vực đo lường và thiết bị đo chính xác, Thước đo đường thủy tinh quang học đã nổi lên như một công cụ thay đổi cuộc chơi giúp vượt qua các ranh giới về độ chính xác và độ tin cậy. Thiết bị cải tiến này khai thác độ rõ nét và độ ổn định kích thước vô song của kính quang học để tạo ra thước đo đặt ra các tiêu chuẩn mới về độ tuyến tính, độ lặp lại và độ bền.

Trong lĩnh vực hệ thống hình ảnh quang học, việc đánh giá chính xác khả năng phân giải của thiết bị là điều tối quan trọng. Để đáp ứng nhu cầu này, Không quân Hoa Kỳ (USAF) đã phát minh ra một công cụ tiên phong vào năm 1951 theo tiêu chuẩn MIL-STD-150A: Biểu đồ kiểm tra độ phân giải của USAF năm 1951. Kể từ đó, thiết bị kiểm tra độ phân giải quang học cực nhỏ này đã trở thành một chuẩn mực phổ biến để đánh giá độ rõ nét và khả năng chụp ảnh chi tiết của các hệ thống hình ảnh khác nhau.

Trong lĩnh vực đo lường quang học chính xác, Hình ba chiều do máy tính tạo ra (CGH) đã nổi lên như một công cụ mạnh mẽ để kiểm tra và đo các bề mặt quang học phức tạp. Trong số này, CGH Xi lanh Nulls đã thu hút được sự chú ý đáng kể nhờ khả năng đánh giá chính xác các bề mặt hình trụ. Bài viết này khám phá các nguyên tắc, thiết kế và ứng dụng của CGH Xi lanh Nulls, nhấn mạnh vai trò của chúng trong việc nâng cao khả năng kiểm tra quang học.

Hình ba chiều do máy tính tạo ra (CGH) đã cách mạng hóa lĩnh vực thử nghiệm quang học, đặc biệt là trong phép đo bề mặt phi cầu. Trong số các kỹ thuật CGH khác nhau, bộ hiệu chỉnh null CGH đóng một vai trò quan trọng trong việc đảm bảo độ chính xác và độ tin cậy cao. Bài viết này đi sâu vào các nguyên tắc, cân nhắc về thiết kế và ứng dụng của bộ hiệu chỉnh null CGH, nhấn mạnh tầm quan trọng của chúng trong thử nghiệm quang học chính xác.

Photomask, còn được gọi đơn giản là mặt nạ, là công cụ quan trọng trong quá trình sản xuất mạch tích hợp (IC) hoặc "chip". Những tấm mờ đục với các vùng trong suốt cho phép ánh sáng chiếu qua theo một kiểu xác định đóng vai trò quan trọng trong quy trình quang khắc, một trong những bước quan trọng trong sản xuất chất bán dẫn. Trong bài viết này, chúng ta sẽ khám phá cách sử dụng mặt nạ quang trong sản xuất IC.

Trong thế giới sản xuất chất bán dẫn, mặt nạ quang và mặt kẻ ô đóng vai trò quan trọng trong việc sản xuất mạch tích hợp (IC). Mặc dù các thuật ngữ này thường được sử dụng thay thế cho nhau nhưng chúng thực sự đề cập đến các thành phần riêng biệt với các chức năng cụ thể. Hiểu được sự khác biệt giữa mặt nạ quang và mặt kẻ ô là điều cần thiết đối với bất kỳ ai tham gia vào ngành vi điện tử.