Công ty TNHH Công nghệ quang học Zhixing Ninh Ba
Công ty TNHH Công nghệ quang học Zhixing Ninh Ba
Tin tức

Tin tức

Chúng tôi rất vui được chia sẻ với bạn về kết quả công việc của chúng tôi, tin tức của công ty và cung cấp cho bạn những diễn biến kịp thời cũng như các điều kiện bổ nhiệm và sa thải nhân sự.
Cách đọc Biểu đồ kiểm tra độ phân giải của USAF năm 1951?17 2024-07

Cách đọc Biểu đồ kiểm tra độ phân giải của USAF năm 1951?

Biểu đồ kiểm tra độ phân giải của USAF (Không quân Hoa Kỳ) năm 1951 là một công cụ quan trọng được sử dụng trong lĩnh vực quang học và hình ảnh để đánh giá khả năng phân giải của các hệ thống hình ảnh khác nhau, bao gồm máy ảnh, kính hiển vi, kính thiên văn và thậm chí cả mắt người. Biểu đồ này do USAF thiết kế vào năm 1951, đã trở thành tiêu chuẩn công nghiệp để đo độ phân giải không gian và được công nhận rộng rãi về độ chính xác và tính linh hoạt của nó. Trong bài viết này, chúng tôi sẽ đi sâu vào sự phức tạp của việc đọc và giải thích Biểu đồ kiểm tra độ phân giải của USAF năm 1951.
Vai trò không thể thiếu của Bảng hiệu chuẩn thị giác máy17 2024-07

Vai trò không thể thiếu của Bảng hiệu chuẩn thị giác máy

Trong bối cảnh khoa học và công nghệ hiện đại không ngừng phát triển, độ chính xác và chính xác đã trở thành yếu tố tối quan trọng thúc đẩy sự đổi mới trong nhiều ngành công nghiệp khác nhau. Một công cụ quan trọng đảm bảo đáp ứng các tiêu chuẩn này là bảng hiệu chuẩn thị giác máy. Bảng mẫu chuyên dụng này đóng vai trò là nền tảng để hiệu chỉnh và đo lường một loạt thiết bị, bao gồm máy ảnh, máy quay video, máy đo khoảng cách laser, radar, v.v.
Việc sử dụng mục tiêu quang học là gì?16 2024-07

Việc sử dụng mục tiêu quang học là gì?

Trong lĩnh vực quang học, độ chính xác và chính xác là điều tối quan trọng. Cho dù đó là đảm bảo tiêu điểm sắc nét của thấu kính kính thiên văn, hiệu chỉnh tia laser để cắt chính xác hay ghi lại các chi tiết phức tạp trong hình ảnh y tế, mọi khía cạnh hiệu suất của hệ thống quang học đều dựa vào các phép đo và điều chỉnh tỉ mỉ. Đây là lúc mục tiêu quang học, một công cụ linh hoạt và không thể thiếu, phát huy tác dụng.
Sự khác biệt giữa Photomask và wafer là gì?16 2024-07

Sự khác biệt giữa Photomask và wafer là gì?

Trong thế giới phức tạp của sản xuất vi điện tử, mặt nạ quang học và tấm bán dẫn đóng vai trò then chốt nhưng chúng phục vụ các mục đích riêng biệt trong quy trình sản xuất rộng hơn. Hiểu được sự khác biệt cơ bản giữa hai thành phần quan trọng này là điều cần thiết để đánh giá cao sự phức tạp của chế tạo chất bán dẫn hiện đại.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept