Tin tức

Mặt nạ quang điện phim đóng một vai trò quan trọng trong sản xuất quang học hiện đại, tạo khuôn bán dẫn, phát triển PCB và các quy trình chế tạo vi mô khác nhau. Chúng đóng vai trò là chất mang mẫu có độ chính xác cao, cho phép tạo ảnh hoặc khắc chính xác dựa trên ánh sáng trên các chất nền khác nhau. Trong bài viết này, tôi sẽ giải thích cách hoạt động của Film Photomask, tại sao nó quan trọng và những thông số kỹ thuật nào làm cho các giải pháp của chúng tôi từ Công ty TNHH Công nghệ Quang học Zhixing Ninh Ba trở nên đáng tin cậy. Cấu trúc rõ ràng, ngôn ngữ dễ đọc và chiều sâu chuyên nghiệp được duy trì xuyên suốt.

Trong lĩnh vực đo lường quang học đang phát triển nhanh chóng, CGH Xi lanh Nulls đã nổi lên như một công cụ không thể thiếu để kiểm tra và hiệu chuẩn độ chính xác của các bề mặt hình trụ và hình cầu. Bằng cách thay thế các thiết lập cơ học phức tạp bằng hình ảnh ba chiều do máy tính tạo ra (CGH), các bộ hiệu chỉnh null này cho phép xác minh bề mặt cực kỳ chính xác trong các hệ thống quang học cao cấp như kính thiên văn, ống kính máy ảnh và dụng cụ kiểm tra bán dẫn. Bài viết này khám phá cách thức, lý do và điều gì khiến CGH Xi lanh Nulls trở nên quan trọng đối với các ngành công nghiệp đang tìm kiếm các giải pháp thử nghiệm có độ chính xác dưới micron và hiệu quả về chi phí, đồng thời nêu bật sự xuất sắc về mặt chuyên môn của Công ty TNHH Công nghệ quang học Ninh Ba Zhixing, nhà sản xuất hàng đầu trong lĩnh vực này.

Bộ hiệu chỉnh Null CGH (Bộ hiệu chỉnh Null hình ba chiều do máy tính tạo ra) là thiết bị kiểm tra quang học tiên tiến được sử dụng để đo và hiệu chỉnh quang sai trong các hệ thống quang học chính xác, chẳng hạn như thấu kính hoặc gương phi cầu và dạng tự do.

Film Photomask là một tấm bản chính được sử dụng để sản xuất tấm bán dẫn mạch tích hợp, chứa thông tin liên quan về bố cục thiết kế mạch tích hợp. Trong quy trình sản xuất tấm bán dẫn, mẫu trên Mặt nạ quang phim được chuyển sang vật liệu nền được phơi sáng thông qua một loạt quy trình như phủ chất cản quang, phơi sáng và phát triển để đạt được sự chuyển mẫu.

Photomask, còn được gọi là mặt nạ ánh sáng, mặt nạ quang học hoặc mặt nạ quang khắc, là một mẫu chính được sử dụng trong quy trình quang khắc trong sản xuất vi điện tử. Sau đây là phần giới thiệu chi tiết về nó:

Khi ứng phó với việc điều chỉnh thuế quan của Hoa Kỳ, ngành quang học cần áp dụng các biện pháp chiến lược đa chiều để cân bằng áp lực chi phí, duy trì thị phần và thúc đẩy nâng cấp công nghiệp. Sau đây là phân tích chiến lược cụ thể: