Mặt nạ phimlà tấm bản chính được sử dụng để sản xuất tấm bán dẫn mạch tích hợp, chứa thông tin liên quan về bố cục thiết kế mạch tích hợp. Trong quy trình sản xuất tấm bán dẫn, mẫu trên Mặt nạ quang phim được chuyển sang vật liệu nền được phơi sáng thông qua một loạt quy trình như phủ chất cản quang, phơi sáng và phát triển để đạt được sự chuyển mẫu.
Ánh sáng bị khúc xạ qua phần trong suốt của Film Photomask và cường độ ánh sáng sẽ phân tán sang vùng mờ đục gần đó. Thấu kính chiếu thu thập các tia này và hội tụ ánh sáng để chiếu lên bề mặt của tấm bán dẫn để tạo ảnh. Nếu muốn phân biệt hai khẩu độ trong suốt liền kề trên Film Photomask thì cường độ ánh sáng của vùng tối giữa chúng phải nhỏ hơn nhiều so với cường độ ánh sáng của vùng trong suốt. Việc theo đuổi độ phân giải cao này không chỉ thể hiện ở việc liên tục cải tiến bước sóng nguồn sáng và chất quang dẫn mà còn ở việc cập nhật liên tục các loại mặt nạ quang và vật liệu được sử dụng.
Các mặt nạ quang hiện nay được sử dụng trong sản xuất chất bán dẫn chủ yếu bao gồmMặt nạ phim, Mặt nạ ảnh phim dịch pha và Mặt nạ ảnh phim EUV.
Thạch anh tổng hợp được điều chế bằng phương pháp lắng đọng dọc trục pha khí. Nó là một khối thủy tinh thạch anh được hình thành bởi một loạt các phản ứng hóa học trong ngọn lửa hydro-oxy để tạo ra các hạt silicon dioxide. Trong số đó, hợp chất silicon có thể là SiCl4, SiHCl3, SiH2Cl2 hay thậm chí là SiH4. Thạch anh tổng hợp phải có độ truyền ánh sáng cao trên 99%, khả năng cản ánh sáng mạnh, tốc độ giãn nở nhiệt thấp, chất lượng cao, độ phẳng cao, độ chính xác bề mặt cao, khả năng kháng plasma mạnh và kháng axit và kiềm, cách nhiệt cao và các đặc tính khác.
Chất nền Photomask dạng phim, còn được gọi là chất nền photomask trống, dùng để chỉ chất nền thạch anh trên đó các vật liệu chức năng như Cr và MoSi đã được lắng đọng, sau đó lớp phủ chống phản chiếu và chất quang dẫn được lắng đọng. Sau khi phơi sáng, khắc, tước, làm sạch, kiểm tra và các quy trình khác, Film Photomask được chuẩn bị. Chất nền Film Photomask chiếm khoảng 90% giá thành nguyên liệu của các sản phẩm Film Photomask và là yếu tố quyết định giá thành của các sản phẩm Film Photomask. Khi người dùng Film Photomask tiếp tục tăng yêu cầu về chất lượng sản phẩm cuối cùng của họ, các công ty Film Photomask không ngừng theo đuổi những bước đột phá về chất lượng sản phẩm và chất lượng của chất nền Film Photomask có tác động đáng kể đến chất lượng củaMặt nạ phimsản phẩm cuối cùng. Các chỉ số chính của chất nền Film Photomask bao gồm độ phẳng, hiệu suất và độ dày của vật liệu lắng đọng bề mặt, độ sạch, v.v. Khi các nút công nghệ sản xuất mạch tích hợp tiếp tục thu hẹp, các yêu cầu đối với các chỉ số kỹ thuật này ngày càng trở nên nghiêm ngặt hơn.
Phim bảo vệ Photomask là loại phim trong suốt dày 1µm được dán trên khung hợp kim nhôm. Việc sử dụngMặt nạ phimmàng bảo vệ có hai chức năng chính. Một là đảm bảo rằng bụi hoặc các hạt gắn vào Mặt nạ quang phim sẽ không được ghi ảnh trên chip trong quá trình phơi sáng; hai là để duy trì độ sạch của mặt nạ ảnh, giảm độ hao mòn của mặt nạ phim trong quá trình sử dụng và nâng cao hiệu quả sản xuất của ngành sản xuất chất bán dẫn.
