Tin tức

Photomask, còn được gọi đơn giản là mặt nạ, là công cụ quan trọng trong quá trình sản xuất mạch tích hợp (IC) hoặc "chip". Những tấm mờ đục với các vùng trong suốt cho phép ánh sáng chiếu qua theo một kiểu xác định đóng vai trò quan trọng trong quy trình quang khắc, một trong những bước quan trọng trong sản xuất chất bán dẫn. Trong bài viết này, chúng ta sẽ khám phá cách sử dụng mặt nạ quang trong sản xuất IC.

Trong thế giới sản xuất chất bán dẫn, mặt nạ quang và mặt kẻ ô đóng vai trò quan trọng trong việc sản xuất mạch tích hợp (IC). Mặc dù các thuật ngữ này thường được sử dụng thay thế cho nhau nhưng chúng thực sự đề cập đến các thành phần riêng biệt với các chức năng cụ thể. Hiểu được sự khác biệt giữa mặt nạ quang và mặt kẻ ô là điều cần thiết đối với bất kỳ ai tham gia vào ngành vi điện tử.

Ảnh ba chiều do máy tính tạo ra (CGH) đã cách mạng hóa lĩnh vực ảnh ba chiều bằng cách cho phép tạo và hiển thị kỹ thuật số hình ảnh ba chiều mà không cần vật liệu ghi ảnh ba chiều truyền thống. Những ảnh ba chiều này tận dụng các thuật toán tính toán để mô phỏng các kiểu giao thoa có thể được tạo ra bởi một vật thể thực, cho phép tạo ra hình ảnh ba chiều có thể được hiển thị bằng nhiều kỹ thuật khác nhau. Trong bài viết này, chúng ta sẽ khám phá các bước cơ bản liên quan đến việc tạo ảnh ba chiều do máy tính tạo ra, tập trung vào ảnh ba chiều dựa trên Fourier, đại diện cho một lớp CGH quan trọng.

Trong bối cảnh không ngừng phát triển của công nghệ hiện đại, độ chính xác và độ chính xác đã trở nên tối quan trọng trong các ngành công nghiệp khác nhau. Đây là lúc Ban Hiệu chuẩn Thị giác Máy (MVCB) tham gia, đóng vai trò then chốt trong việc đảm bảo rằng máy ảnh, máy quay video, máy đo khoảng cách laser, radar và các thiết bị dựa trên thị giác khác hoạt động ở mức tối ưu.