Mặt nạ quang 4 inch

Zhixing có nhiều kinh nghiệm trong việc sản xuất Photomask 4 inch, chúng tôi có nhà máy gia công và sản xuất riêng, giá cả thuận lợi và chúng tôi hỗ trợ tùy chỉnh các kích cỡ khác nhau, đồng thời đảm bảo độ chính xác cao, đáp ứng mọi yêu cầu của khách hàng, vui lòng tham khảo ý kiến , Mong được làm việc với bạn.

Photomask 4 Inch là một thiết bị rất quan trọng trong ngành quang học, được sử dụng chủ yếu trong quá trình sản xuất, chế tạo các thiết bị quang học. Phạm vi ứng dụng của phiên bản mặt nạ rất rộng, bao gồm nhiều lĩnh vực như điện tử, chất bán dẫn, quang học và hóa học. Công nghệ Photomask 4 inch cho phép sản xuất các mẫu chất lượng cao và độ chính xác ở mức micron, mang lại sự hỗ trợ quan trọng cho sự phát triển của ngành quang học.

Trong lĩnh vực điện tử, phiên bản mặt nạ chủ yếu được sử dụng để sản xuất các linh kiện vi điện tử khác nhau trong các sản phẩm điện tử, chẳng hạn như bóng bán dẫn, mạch tích hợp, chip LED, v.v. Thông qua công nghệ tấm mặt nạ, có thể đạt được độ chính xác sản xuất ở mức micron, giúp quy trình sản xuất linh kiện điện tử trở nên tinh tế và hiệu quả hơn, đồng thời cải thiện đáng kể năng lực sản xuất và chất lượng sản phẩm của ngành điện tử.

Trong ngành bán dẫn, Photomask 4 Inch cũng là một thiết bị không thể thiếu. Chip bán dẫn là một trong những thành phần cơ bản trong khoa học công nghệ hiện đại, tấm mặt nạ là công cụ chế tạo không thể thiếu trong quá trình sản xuất chip bán dẫn. Photomask 4 inch có thể thực hiện quá trình xử lý và tăng trưởng "cục bộ" của chip bán dẫn, giúp việc sản xuất chip bán dẫn hiệu quả và tinh tế hơn, đồng thời nâng cao năng lực sản xuất và chất lượng sản phẩm của ngành bán dẫn.

Trong ngành quang học, phiên bản mặt nạ chủ yếu được sử dụng để sản xuất các thiết bị quang học có độ chính xác cao, chẳng hạn như tấm pin mặt trời, màng bảo vệ quang học, v.v. Công nghệ tấm mặt nạ có thể kiểm soát tốt hình dạng, kích thước, độ dày và các thông số khác của thiết bị quang học, tạo ra các thiết bị quang học chất lượng cao và làm cho ngành quang học ngày càng phát triển mạnh mẽ hơn.

Công nghệ tấm mặt nạ cũng được sử dụng rộng rãi trong lĩnh vực hóa học. Trong sản xuất hóa chất, tấm mặt nạ có thể đạt được độ chính xác ở mức micron, sản xuất vật liệu composite chất lượng cao, thuốc thử hóa học và dược phẩm và các sản phẩm khác, đã đóng góp quan trọng cho sự phát triển của ngành hóa chất.

Tóm lại, phạm vi ứng dụng của tấm mặt nạ trong ngành quang học rất rộng và nó có thể đạt được độ chính xác sản xuất ở mức micron, điều này thúc đẩy sự phát triển chất lượng cao của ngành quang học. Với sự tiến bộ không ngừng của khoa học công nghệ, công nghệ khẩu trang cũng không ngừng được cập nhật và cải tiến, mang đến không gian phát triển rộng lớn hơn cho sự phát triển trong tương lai của ngành quang học.

Tính năng:

Chỉ có một số sản phẩm được hiển thị trong bảng, nếu bạn cần các sản phẩm khác,

bạn có thể tham khảo dịch vụ khách hàng

Trưng bày vật lý các sản phẩm in thạch bản photomask thủy tinh

quá trình chế tạo:

(1) Vẽ tệp bố cục mặt kẻ ô (định dạng GDS) mà thiết bị tạo có thể nhận dạng

2) Sử dụng máy in thạch bản không mặt nạ để đọc tệp bố cục, thực hiện phơi sáng không tiếp xúc (bước sóng phơi sáng 405nm) trên ô trống bằng keo và chiếu sáng vùng mẫu cần thiết trên ô để tạo chất quang dẫn trong khu vực này. (thường là keo dương) trải qua phản ứng quang hóa

3) Sau khi phát triển và cố định, chất quang dẫn ở vùng tiếp xúc sẽ hòa tan và rơi ra, để lộ lớp crom bên dưới

4) Sử dụng dung dịch khắc crom để khắc ướt, khắc lớp crom lộ ra để tạo thành vùng truyền ánh sáng, lớp crom được bảo vệ bởi chất quang dẫn sẽ không bị ăn mòn, tạo thành vùng mờ đục. Bằng cách này, các cấu trúc dạng phẳng có độ truyền ánh sáng khác nhau được hình thành trên lưới.

5) Nếu cần, hãy sử dụng phương pháp ướt hoặc khô để loại bỏ lớp quang dẫn trên lưới và làm sạch lưới.

Giấy chứng nhận