Trong thế giới sản xuất chất bán dẫn,mặt nạ chụp ảnhvà lưới điện đóng vai trò quan trọng trong việc sản xuất các mạch tích hợp (IC). Mặc dù các thuật ngữ này thường được sử dụng thay thế cho nhau nhưng chúng thực sự đề cập đến các thành phần riêng biệt với các chức năng cụ thể. Hiểu được sự khác biệt giữa mặt nạ quang và mặt kẻ ô là điều cần thiết đối với bất kỳ ai tham gia vào ngành vi điện tử.
Photomask: Khối xây dựng cơ bản
Photomask hay còn gọi đơn giản là mặt nạ là một tấm kính có hoa văn được khắc trên bề mặt mờ đục. Mẫu này, thường được tạo bằng phương pháp quang khắc, đóng vai trò là khuôn mẫu để truyền hình ảnh lên một tấm bán dẫn trong quá trình quang khắc. Mặt nạ quang được sử dụng trong nhiều bước sản xuất khác nhau, bao gồm tạo hình các lớp vật liệu kim loại, điện môi và bán dẫn.
Thuật ngữ"mặt nạ ảnh"bắt nguồn từ chức năng sử dụng ánh sáng (photon) để "che" hoặc chặn các khu vực cụ thể của tấm bán dẫn, chỉ cho phép phơi sáng những vùng mong muốn. Photomask rất cần thiết để đạt được độ chính xác và độ chính xác cao cần thiết trong sản xuất chất bán dẫn hiện đại.
Reticle: Mặt nạ ảnh chuyên dụng
Mặt kẻ ô là một loại mặt nạ ảnh đặc biệt khác với mặt nạ ảnh tiêu chuẩn ở một khía cạnh chính: dữ liệu mà nó chứa. Một ô kẻ ô chỉ chứa dữ liệu cho một phần của khu vực tiếp xúc cuối cùng chứ không phải toàn bộ mẫu. Điều này là do các mặt kẻ ô được thiết kế để sử dụng với các bước hoặc máy quét, giúp di chuyển tấm bán dẫn so với mặt kẻ ô để lộ ra các vùng khác nhau của tấm bán dẫn.
Bằng cách chỉ chứa một phần của mẫu tổng thể, các ô kẻ ô cho phép phơi sáng hiệu quả các tấm bán dẫn lớn mà không cần mặt nạ quang quá lớn. Điều này đặc biệt quan trọng trong việc sản xuất IC tiên tiến, thường yêu cầu phơi sáng các mẫu quá lớn để vừa với một mặt nạ quang.
Sự khác biệt chính
Nội dung dữ liệu: Sự khác biệt chính giữa mặt nạ ảnh và mặt kẻ ô nằm ở dữ liệu chúng chứa. Mặt nạ quang tiêu chuẩn chứa toàn bộ mẫu sẽ được chuyển lên tấm bán dẫn, trong khi mặt kẻ ô chỉ chứa một phần của mẫu.
Cách sử dụng: Mặt nạ quang học thường được sử dụng trong các quy trình sản xuất đơn giản hơn, trong đó toàn bộ mẫu có thể được hiển thị chỉ trong một bước. Mặt khác, mặt kẻ ô được sử dụng trong các quy trình phức tạp hơn, trong đó tấm bán dẫn được phơi ra theo nhiều bước bằng cách sử dụng máy bước hoặc máy quét.
Kích thước: Vì các ô kẻ ô chỉ chứa một phần của mẫu tổng thể nên chúng thường nhỏ hơn mặt nạ quang tiêu chuẩn. Điều này cho phép sử dụng không gian hiệu quả hơn trong quá trình sản xuất.
Tóm lại, mặc dù mặt nạ quang và mặt kẻ ô đều là những thành phần thiết yếu trong sản xuất chất bán dẫn nhưng chúng phục vụ các mục đích riêng biệt.Mặt nạ ảnhđược sử dụng để chuyển toàn bộ mẫu lên tấm bán dẫn, trong khi mặt kẻ ô là mặt nạ quang chuyên dụng chỉ chứa một phần mẫu và được sử dụng cùng với máy bước hoặc máy quét để lộ các tấm bán dẫn lớn. Hiểu được sự khác biệt giữa hai thành phần này là rất quan trọng để đảm bảo sự thành công của bất kỳ quy trình sản xuất chất bán dẫn nào.
