Công ty TNHH Công nghệ quang học Zhixing Ninh Ba
Công ty TNHH Công nghệ quang học Zhixing Ninh Ba
Tin tức

Giới thiệu chi tiết về phiên bản mặt nạ

2024-11-21

Đầu tiên, vai trò và chức năng củamặt nạphiên bản

Chức năng chính củatấm mặt nạlà chuyển mẫu mạch được thiết kế sang đế hoặc tấm bán dẫn của sản phẩm hạ nguồn thông qua quá trình tiếp xúc. Là chuẩn mực và kế hoạch chi tiết cho việc tái tạo in thạch bản,tấm mặt nạlà chìa khóa để kết nối thiết kế công nghiệp và quy trình sản xuất. Độ chính xác và mức chất lượng của tấm mặt nạ sẽ ảnh hưởng trực tiếp đến chất lượng tuyệt vời của sản phẩm cuối cùng. Chức năng của tấm mặt nạ tương tự như "âm bản" của máy ảnh truyền thống và hình ảnh (đồ họa mạch) được sao chép bằng phương pháp trong suốt và không trong suốt, để đạt được sản xuất hàng loạt.


Trong sản xuất chất bán dẫn, tấm mặt nạ tạo thành cổng, cống nguồn, cửa sổ pha tạp, lỗ tiếp xúc điện cực và các cấu trúc khác trên bề mặt tấm bán dẫn thông qua quá trình tiếp xúc nhiều lần. Trong sản xuất màn hình phẳng, mảng TFT được thiết kế và mẫu bộ lọc màu được phơi sáng và chuyển sang đế thủy tinh theo trình tự cấu trúc lớp màng của bóng bán dẫn màng mỏng bằng cách sử dụng hiệu ứng che phủ phơi sáng của tấm mặt nạ và cuối cùng thiết bị hiển thị có nhiều lớp màng được hình thành.


Thứ hai, cấu trúc và vật liệu củatấm mặt nạ

Tấm mặt nạ chủ yếu bao gồm chất nền, lớp che nắng và màng bảo vệ.


Chất nền: Chất nền tấm mặt nạ là một tấm trống cảm quang để tạo đồ họa mặt nạ ảnh đẹp. Vật liệu nền phổ biến là thủy tinh thạch anh và thủy tinh soda. Thủy tinh thạch anh có độ truyền quang cao, tốc độ giãn nở nhiệt thấp, độ phẳng cao và chống mài mòn, chủ yếu được sử dụng trong tấm mặt nạ có độ chính xác cao. Tính chất quang học của thủy tinh soda kém hơn một chút so với thủy tinh thạch anh và nó chủ yếu được sử dụng cho độ chính xác trung bình và thấptấm mặt nạ.

Lớp che chắn: Lớp che chắn chủ yếu được chia thành lớp che chắn cứng và lớp che chắn cao su. Lớp bóng cứng thường được hình thành bằng cách mạ crom trên nền, có độ bền và độ bền cơ học cao, có thể tạo thành các hoa văn tinh xảo. Lớp bóng cao su chủ yếu được sử dụng trong các cảnh điều khiển PCB và cảm ứng.

Màng bảo vệ: Màng bảo vệ (Pellicle) dùng để chỉ màng bảo vệ tấm mặt nạ có khả năng cản sáng và truyền ánh sáng cao, dùng để bảo vệ tấm mặt nạ khỏi bụi, vết bẩn và các ô nhiễm khác.

Thứ ba,tấm mặt nạsản xuất và ứng dụng

Quy trình sản xuất tấm mặt nạ phức tạp, nhiều bước. Tấm mặt nạ được sản xuất dựa trên mẫu thiết kế ban đầu, được xử lý bằng hệ thống có sự hỗ trợ của máy tính và được bổ sung tính năng bù hiệu ứng quang học gần. Mẫu thiết kế đã hiệu chỉnh được cấy vào đế thạch anh có hiệu suất truyền ánh sáng tốt khi tiếp xúc với tia laser hoặc tia điện tử. Cuối cùng, tấm mặt nạ được khắc và kiểm tra.


Phiên bản mặt nạ được sử dụng rộng rãi ở hạ lưu, chủ yếu bao gồm sản xuất vi mạch, đóng gói vi mạch, màn hình phẳng và công nghiệp bảng mạch in. Phiên bản mặt nạ có liên quan chặt chẽ đến xu hướng phát triển của điện tử tiêu dùng phổ thông (điện thoại di động, máy tính bảng, thiết bị đeo), máy tính xách tay, thiết bị điện tử trên xe, mạng truyền thông, thiết bị gia dụng, đèn LED, Internet vạn vật, điện tử y tế và các sản phẩm khác trong ngành công nghiệp thiết bị đầu cuối hạ nguồn.


Thứ tư, việc phân loại và công nghệ củatấm mặt nạ

Tấm mặt nạ theo cách sử dụng phân loại có thể được chia thành tấm crom, tấm khô, tấm cứu trợ chất lỏng và màng. Trong số đó, tấm crom có ​​độ chính xác cao nhất và độ bền tốt hơn, được sử dụng rộng rãi trong màn hình phẳng, IC, bảng mạch in và công nghiệp linh kiện điện tử tinh xảo; Tấm khô, tấm giảm chất lỏng và màng chủ yếu được sử dụng trong ngành công nghiệp LCD có độ chính xác thấp và trung bình, bảng mạch PCB và IC và các ngành công nghiệp khác.


Theo các nguồn ánh sáng khác nhau được sử dụng trong quá trình in thạch bản, các tấm mặt nạ thông thường được chia đại khái thành các tấm mặt nạ nhị phân, tấm mặt nạ chuyển pha và tấm mặt nạ EUV.


Tấm mặt nạ nhị phân: Tấm Photomask gồm hai phần truyền ánh sáng và truyền ánh sáng, là loại tấm mặt nạ sớm nhất và được sử dụng nhiều nhất, được sử dụng rộng rãi trong quang khắc ngâm 365nm (I-wire) đến 193nm.

Phiên bản mặt nạ dịch pha: Là sản phẩm mặt nạ có lớp dịch pha có độ dày tỉ lệ với 1/2 chiều dài sóng ánh sáng được bố trí tại khe truyền ánh sáng liền kề. Công nghệ mặt nạ dịch pha cho phép ánh sáng phơi sáng đi qua lớp dịch pha tạo ra độ lệch pha ánh sáng 180 độ so với ánh sáng truyền qua khác, cải thiện độ phân giải và độ sâu tiêu cự của phơi sáng tấm bán dẫn và cuối cùng là cải thiện mặt nạ quang với đặc tính tái tạo cao hơn.

Tấm mặt nạ EUV: Một tấm mặt nạ mới được sử dụng trong quá trình in thạch bản EUV. Do EUV có bước sóng ngắn và dễ dàng bị hấp thụ bởi mọi vật liệu nên không thể sử dụng phần tử khúc xạ như thấu kính mà thay vào đó phản xạ chùm tia qua cấu trúc đa lớp (ML) theo Định luật Bragg. Tấm mặt nạ EUV thường được sử dụng trong 7nm, 5nm và các quy trình tiên tiến khác.

Thứ năm, phiên bản mặt nạ của thị trường và xu hướng phát triển công nghệ

cáctấm mặt nạngành công nghiệp sẽ phát triển theo hướng có độ chính xác cao và quy mô lớn trong tương lai. Sự phát triển của ngành công nghiệp tấm mặt nạ chủ yếu bị ảnh hưởng bởi sự phát triển của ngành công nghiệp chip hạ nguồn, công nghiệp màn hình phẳng, công nghiệp cảm ứng và công nghiệp bảng mạch. Với sự phát triển của quy trình sản xuất chip bán dẫn theo hướng tinh tế, điều này đặt ra các yêu cầu cao hơn đối với tấm mặt nạ phù hợp với nó và độ chính xác của đường may ngày càng cao hơn.


Về chất bán dẫn, quy trình sản xuất tiên tiến phổ biến trong nước hiện nay là quy trình 28nm, quy trình phổ biến ở nước ngoài là 14nm, Samsung đã sản xuất hàng loạt tấm wafer quy trình 7nm và TSMC đã sản xuất hàng loạt quy trình 5nm. Trong tương lai, quy trình sản xuất mạch tích hợp sẽ được cải tiến và phát triển hơn nữa theo quy trình 5nm-3nm.


Kích thước sản phẩm phiên bản mặt nạ sẽ tiếp tục có xu hướng kích thước lớn trong tương lai. Trong lĩnh vực màn hình phẳng, màn hình TFT-LCD đại lục của Trung Quốc đã chiếm ưu thế tuyệt đối và tỷ trọng OLED trên thế giới đã tăng lên nhanh chóng. Nhu cầu vềmặt nạphiên bản đất ngày càng tăng và không gian thị trường đang dần được cải thiện.


Sáu, những thách thức và cơ hội của ngành công nghiệp tấm mặt nạ

Những thách thức chính mà ngành công nghiệp tấm mặt nạ phải đối mặt bao gồm rào cản kỹ thuật, chi phí cao và cạnh tranh thị trường. Do ngành công nghiệp tấm mặt nạ in thạch bản có những rào cản kỹ thuật nhất định, nên ngành in thạch bản toàn cầutấm mặt nạchủ yếu là nhà sản xuất chuyên nghiệp. Nguyên liệu thô quan trọng nhất cho tấm mặt nạ là chất nền mặt nạ, trong đó giá thành của thủy tinh thạch anh có độ tinh khiết cao cao hơn và số lượng nhà cung cấp ít.


Tuy nhiên, ngành công nghiệp mặt nạ cũng có những cơ hội lớn. Với sự phát triển nhanh chóng của ngành công nghiệp hạ nguồn, đặc biệt là sự tăng trưởng liên tục của ngành công nghiệp bán dẫn và màn hình phẳng, nhu cầu thị trường về tấm mặt nạ sẽ tiếp tục tăng. Đồng thời, với sự tiến bộ không ngừng của công nghệ, độ chính xác và hiệu suất của phiên bản mặt nạ sẽ được cải thiện hơn nữa, mang lại những điểm tăng trưởng mới cho ngành.


Bảy, phiên bản mặt nạ của công nghệ thay thế tiềm năng

Hiện nay, các tấm có mặt nạ chiếm ưu thế trong sản xuất vi điện tử, nhưng các công nghệ thay thế tiềm năng như công nghệ không có mặt nạ cũng đang phát triển. Bởi vì công nghệ không mặt nạ chỉ có thể đáp ứng nhu cầu truyền đồ họa trong các ngành có yêu cầu độ chính xác tương đối thấp (như PCB) và hiệu quả sản xuất thấp nên không thể đáp ứng nhu cầu của các ngành có yêu cầu độ chính xác khi truyền đồ họa cao và yêu cầu hiệu quả sản xuất. Do đó, sự thay đổi công nghệ của ngành công nghiệp tấm mặt nạ ở giai đoạn này vẫn còn chậm và không có nguy cơ lặp lại công nghệ nhanh chóng.


viiii bữa tối

Là bậc thầy chuyển giao đồ họa trong quá trình sản xuất vi điện tử, tấm mặt nạ đóng một vai trò quan trọng trong quy trình sản xuất màn hình phẳng, chất bán dẫn, điều khiển cảm ứng, bảng mạch và các ngành công nghiệp khác. Độ chính xác và mức chất lượng của tấm mặt nạ ảnh hưởng trực tiếp đến chất lượng tuyệt vời của sản phẩm cuối cùng. Với sự phát triển nhanh chóng của ngành công nghiệp hạ nguồn và sự tiến bộ không ngừng của công nghệ, ngành công nghiệp mặt nạ sẽ mở ra nhiều cơ hội và thách thức hơn. Trong tương lai, phiên bản mặt nạ sẽ phát triển theo hướng có độ chính xác cao và kích thước lớn, cung cấp các giải pháp truyền tải đồ họa chất lượng cao và hiệu quả hơn cho ngành sản xuất vi điện tử.


Tin tức liên quan
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept